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              KRI 考夫曼离子源 KDC 10
              阅读数: 3105

              KRI 考夫曼离子源 KDC 10

              KRI 考夫曼离子源 KDC 10
              上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列最小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氩气时离子蚀刻的能力显著提高.KDC 10 离子源低损伤, 宽束设计, 低成本等优点广泛应用在显微镜领域, 标准配置下 KDC 10 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 10mA.

               KRI 考夫曼离子源 KDC 10 技术参数

              型号

              KDC 10

              供电

              DC magnetic confinement

               - 阴极灯丝

              1

               - 阳极电压

              0-100V DC

               - 栅极直径

              1cm

              中和器

              灯丝

              电源控制

              KSC 1202

              配置

              -

               - 阴极中和器

              Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

               - 架构

              移动或快速法兰

               - 高度

              4.5'

               - 直径

              1.52'

               - 离子束

              集中
              平行
              散设

               -加工材料

              金属
              电介质
              半导体

               -工艺气体

              惰性
              活性
              混合

               -安装距离

              2-12”

               - 自动控制

              控制4种气体


              KRI 考夫曼离子源 KDC 10 应用领域
              离子清洗, 显微镜抛光 IBP
              溅镀和蒸发镀膜 PC
              辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
              表面改性, 激活 SM
              离子溅射沉积和多层结构 IBSD
              离子蚀刻 IBE

              其他产品
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