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              霍尔离子源 eH 200
              阅读数: 7253

              霍尔离子源 eH 200

              KRI 霍尔离子源 eH 200
              上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔离子源 eH200 操作简单是理想的生产工具.

              KRI 霍尔离子源 eH 200 技术参数:

              型号

              eH 200

              供电

              DC magnetic confinement

                - 电压

              40-300V VDC

                - 离子源直径

              ~ 2 cm

                - 阳极结构

              ??榛?/p>

              电源控制

              eHx-3005A

              配置

              -

                - 阴极中和器

              Filament or Hollow Cathode

                - 离子束发散角度

              > 45° (hwhm)

                - 阳极

              标准或 Grooved

                - 水冷

                - 底座

              移动或快接法兰

                - 高度

              2.0'

                - 直径

              2.5'

                -加工材料

              金属
              电介质
              半导体

                -工艺气体

              Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

                - 安装距离

              6-24”

                - 自动控制

              控制4种气体

              * 可选: 可调角度的支架; Filamentless; Sidewinder

              KRI 霍尔离子源 eH 200 应用领域:
              溅镀和蒸发镀膜 PC
              辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
              表面改性, 激活 SM
              直接沉积 DD

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