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              KRI 霍尔离子源 eH 1000
              阅读数: 7495

              KRI 霍尔离子源 eH 1000

              KRI 霍尔离子源 eH 1000
              上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 1000 高效气体利用, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.
              尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”
              放电电压 / 电流: 50-300V / 10A
              操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

              KRI 霍尔离子源 eH 1000 特性:
              可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 最大限度地减少?;奔? 即插即用备用阳极
              宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
              多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便; 无需水冷
              高效的等离子转换和稳定的功率控制

              KRI 霍尔离子源 eH 1000 技术参数:

              型号

              eH1000 / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO

              供电

              DC magnetic confinement

                - 电压

              40-300V VDC

                - 离子源直径

              ~ 5 cm

                - 阳极结构

              ??榛?/p>

              电源控制

              eHx-30010A

              配置

              -

                - 阴极中和器

              Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

                - 离子束发散角度

              > 45° (hwhm)

                - 阳极

              标准或 Grooved

                - 水冷

              前板水冷

                - 底座

              移动或快接法兰

                - 高度

              4.0'

                - 直径

              5.7'

                - 加工材料

              金属
              电介质
              半导体

                - 工艺气体

              Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

                - 安装距离

              10-36”

                - 自动控制

              控制4种气体

              * 可选: 可调角度的支架; Sidewinder

              KRI 霍尔离子源 eH 1000 应用领域:
              离子辅助镀膜 IAD
              预清洗 Load lock preclean
              预清洗 In-situ preclean
              Direct Deposition
              Surface Modification
              Low-energy etching
              III-V Semiconductors
              Polymer Substrates

              其他产品
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