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              KRI 考夫曼离子源

              1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

              伯东离子源      精密薄膜控制

              伯东离子源蚀刻均匀性

              伯东离子源精密光学

              伯东离子源MEMS,传感器和显示器

              考夫曼离子源创始人 Harold Kaufman

              1926 年在美国出生
              1951 年加入美国 NASA 路易斯研究中心
              1971 年考夫曼博士获得美国宇航局杰出服务奖
              1978 年考夫曼博士成立了 Kaufman & Robinson,Inc 公司,开始研发生产适合民用的霍尔离子源和考夫曼离子源

              KRI 射频离子源 RFICP 系列

              射频离子源, 提供高能量, 低浓度的离子束, 单次工艺时间更长, 适合多层膜的制备和离子溅镀镀膜

              型号

              RFICP 40

              RFICP 100

              RFICP 140

              RFICP 220

              RFICP 380

              离子束流

              >100 mA

              >350 mA

              >600 mA

              >800 mA

              >1500 mA

              离子动能

              100-1200 V

              100-1200 V

              100-1200 V

              100-1200 V

              100-1200 V

              栅极直径

              4 cm Φ

              10 cm Φ

              14 cm Φ

              20 cm Φ

              30 cm Φ

              离子束

              聚焦, 平行, 散射

              KRI 考夫曼离子源 KDC 系列

              离子源通过加热灯丝产生离子束, 低浓度高能量宽束型离子源

              型号

              KDC 10

              KDC 40

              KDC 75

              KDC 100

              KDC 160

              离子束流

              >10 mA

              >100 mA

              >250 mA

              >400 mA

              >650 mA

              离子动能

              100-1200 V

              100-1200 V

              100-1200 V

              100-1200 V

              100-1200 V

              栅极直径

              1 cm Φ

              4 cm Φ

              7.5 cm Φ

              12 cm Φ

              16 cm Φ

              离子束

              聚焦, 平行, 散射

              KRI 霍尔离子源 eH 系列

              霍尔离子源无栅极, 高浓度, 低能量宽束型离子源
              发散离子束 >45

              KRI 霍尔离子源 eH 400

              霍尔离子源 eH 400
              尺寸:直径= 3.7“ 高= 3”
              离子束动能: 50-300eV
              电流: 5a

              霍尔离子源 eh400

              KRI 考夫曼离子源 KDC 75

              考夫曼离子源 KDC 75
              尺寸: 直径= 5.5“ 高= 7.9”
              离子束动能: 100-1200 eV
              电流: 250 mA

              考夫曼离子源

              KRI 考夫曼离子源 KDC 10

              考夫曼型离子源 KDC 系列最小型号的离子源
              尺寸:直径= 1.52“ 高= 4.5”
              离子束动能: 100-1200 ev
              电流: 10 mA

              考夫曼离子源  KDC 10

              KRI 考夫曼离子源 KDC 40

              考夫曼离子源 KDC 40
              尺寸: 直径= 3.5“ 高= 6.75”
              离子束动能: 100-1200 eV
              电流: 120 mA

              考夫曼离子源 KDC40

              KRI 霍尔离子源 eH 1000

              霍尔离子源 eH 1000
              尺寸:直径= 5.7“ 高= 5.5”
              离子束动能: 50-300V
              电流: 10A

              霍尔离子源

              KRI 霍尔离子源 eH 2000

              霍尔离子源 eH 2000
              尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”
              离子束动能: 50-300V
              电流: 10A 或 15A

              霍尔离子源eh2000

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